Control del Proceso de Plasma al mejor precio

El equipo de plasma RIE de la serie Zepto es una solución Ideal para procesos de plasma etching de superficies cuando el presupuesto es limitado.

El equipo ha ido poco a poco convirtiéndose en un estándar en la preparación de superficies gracias a la buena relación coste - beneficio.

Zepto Modelo 6

El Zepto modelo 6 es una solución desarrollada para realizar procesos de etching de wafer individuales de hasta 6" cuando el presupuesto es limitado.

Con control semiautomático cuenta con generador de plasma de 13,56 Mhz con potencia ajustable hasta 200W.

El generador de radiofrecuencia es la opción más apropiada para realizar procesos de procesos de limpieza, activación y etching de superficies manteniendo un claro compromiso con el coste.

Características

425x310x450mm

Dimensiones chasis

Aluminio con tapa

Material Cámara

1 litro. Ø 190mm x 60mm de alto

Volumen cámara

2 Canales gas

Gases de proceso

13,56 MHz 200W

Generador Plasma

Medidor de Presión

Control del Sistema

Control del Proceso

Control potencia y temporizador

Plasma Cleaner Zepto Modelo 3. Equipo de preparacion de superficies por plasma de baja presion Zepto con control computerizado
Lo que opinan nuestros especialistas:

"El Zepto RIE M6 es una solución odeañ cuando se necesita realizar procesos de limpieza, activación y etching de superficies. La especial arquitectura RIE permite generar un plasma anisotrópico que favorece los procesos de retirada de material.

Equipo de iniciación para procesos y efectos basados en plasma anisotrópico".

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